Sitz in Freiburg, Deutschland NexWafe, ein Unternehmen, das hocheffiziente monokristalline Siliziumwafer herstellt, hat in seiner Finanzierungsrunde der Serie B 10 Millionen Euro eingesammelt.
In der Elektronik ist ein Wafer (auch Scheibe oder Substrat genannt) eine dünne Halbleiterscheibe wie kristallines Silizium (c-Si), die zur Herstellung integrierter Schaltkreise und in der Photovoltaik zur Herstellung von Solarzellen verwendet wird. Der Wafer dient als Substrat für mikroelektronische Geräte, die in und auf dem Wafer eingebaut sind.
Investoren in dieser Runde
An der aktuellen Runde beteiligten sich Investoren wie Fraunhofer, Saudi Aramco Energy Ventures, GAP Technology Holding, Lynwood Schweiz AG und Bantina Invest Limited.
Verwendung der Mittel
Das eingeworbene Kapital wird es NexWafe ermöglichen, seine umweltfreundliche, hocheffiziente Solarwafer-Technologie „EpiNex“ weiter zu industrialisieren und mit den Pilotproduktionsaktivitäten zu beginnen. Das Unternehmen sucht außerdem nach potenziellen Partnern für die Kommerzialisierung der Technologie.
Um dies zu erreichen, wird Davor Sutija, CEO von NexWafe, diese Entwicklung leiten. Er wurde im September 2020 in seine Position berufen.
Was hat NexWafe gebaut?
Das Unternehmen wurde aus dem Fraunhofer-Institut für gegründet Solarenergie Systems im Jahr 2015 von den Gründern Frank Siebke, Kai Schillinger, Roy Segev und Stefan Reber. NexWafe nutzt Inline-Epitaxie zur Herstellung hocheffizienter monokristalliner Siliziumwafer.
Epitaxie bezieht sich auf eine Art Kristallwachstum oder Materialabscheidung, bei der neue kristalline Schichten mit einer oder mehreren wohldefinierten Orientierungen in Bezug auf das kristalline Substrat gebildet werden.
Durch die Minimierung des Abfalls durch die direkte Gas-zu-Wafer-Herstellung sind die Epinex-Wafer von NexWafe mit der konventionellen Solarzellen- und Modulfertigung kompatibel, wobei der CO70-Fußabdruck im Vergleich zu herkömmlichen Wafern um 30 Prozent reduziert wird und die Produktionskosten um XNUMX Prozent gesenkt werden .
Das Unternehmen nutzt sein Verfahren, bei dem eine kristalline Siliziumschicht auf einem Seed-Wafer abgeschieden und anschließend abgelöst wird. Dadurch entstehen fertige Wafer mit optimaler Dicke und hervorragenden Materialeigenschaften. Das Unternehmen verfügt über eine 5-MW-Pilotproduktionsanlage in Freiburg/Deutschland, deren Auslieferungen im Jahr 2021 beginnen sollen. Außerdem ist die Beschaffung weiteren Kapitals zur Unterstützung dieser Aktivität geplant.
Bart Markus wird neuer Vorstandsvorsitzender von NexWafe?
Das Unternehmen hat außerdem angekündigt, dass Peter Pauli angesichts der oben genannten Entwicklungen als Vorstandsvorsitzender zurücktreten wird, um sich mehr Zeit für andere Aufgaben zu nehmen.
Er wird seine Verbindung mit NexWafe fortsetzen und bleibt Aktionär. Pauli sagt: „Es war eine große Ehre, NexWafe beim Übergang von einem akademischen Spin-off zu einem Unternehmen für Technologieprodukte zu begleiten. Die EpiNex-Wafer von NexWafe sind ein Schlüsselelement des zukünftigen Solarmarktes, da die Branche bestrebt ist, die Erwartungen hinsichtlich Kosten und PV-Effizienz zu erfüllen.“
Den Vorsitz übernimmt Bart Markus, seit 2019 Mitglied im Vorstand von NexWafe. Markus verfügt über mehr als zwei Jahrzehnte Erfahrung als Serienunternehmer und Investor im Hochtechnologiebereich. Er verfügt außerdem über einen MSc in Angewandter Physik der Technischen Universität Twente und einen MBA mit Auszeichnung von INSEAD.